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国产光刻机工厂落地雄安?中国电子院回应

2023-09-19 05:04:52  来源: 观察者网   作者:记者
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  近期,各大视频平台疯传一条消息称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化,实现了光刻机国产化,并表示这个项目已经在雄安新区落地。还在视频中配了这样一张图,表示图片中的项目就是光刻厂。对此,微信公众号“中国电子院”9月18日发布信息辟谣称,该项目并非网传的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。

  网络上流传的图片 本文图片均转自微信公众号“中国电子院”(下同)

  中国电子院介绍道,HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一,早在2019年就开始建设,将于2025年底投入使用。

  北京高能同步辐射光源项目实拍图

  HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV,然后注入周长1360米的储存环,用接近光速的速度保持运转。

  电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时,就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光,也就是同步辐射光。

  简单的说,HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。因此HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。

  该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队,中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。

  从项目可研立项到项目落地,中国电子院攻克了多项技术和工艺难关,解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题,实现了重大技术突破,指标控制达到了国际先进水平。

  目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工,向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

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